半导体
半导体工业用超纯水(UPW)
在等离子显示器、芯片和集成电路的生产中，某些工艺步骤需要非常高质量的水。
UPW生产系统的典型方案
UPW的生产需要整合几种处理技术，包括反渗透、电去电离和离子交换。
一个设计良好的UPW系统需要策略性地选择技术和设备。根据给水水质和/或用户要求，可以采用不同的配置。请联系我们了解更多信息。
UPW质量指南
ASTM(美国测试和材料协会)为半导体工业区分了几种纯度等级
参数 |
类型E.1 |
E型1.1 |
E型1.2 |
线宽 |
1.0 - -0.5 |
0.35 - -0.25 |
0.18 - -0.09 |
电阻率,25oC MΩ疲倦 |
18.1 |
18.2 |
18.2 |
TOC (μg/L)(在线 |
5 |
2 |
1 |
在线溶解氧(μg/L) |
25 |
10 |
3. |
蒸发后残留(μg/L) |
1 |
0．5 |
0．1 |
SEM粒子 |
|||
0.1 - -0.2µm |
1.000 |
700 |
< 250 |
0.2 - -0.5µm |
500 |
400 |
< 100 |
0.5 - -0.1µm |
One hundred. |
50 |
< 30 |
10µm |
< 50 |
< 30 |
＜10 |
细菌CFU/体积 |
|||
100毫升样品 |
5 |
3. |
1 |
1 l示例 |
10 |
||
10 l示例 |
|||
硅 |
|||
总(μg / L) |
5 |
3. |
1 |
溶解(μg / L) |
3. |
1 |
0．5 |
负离子和铵离子(μg/L) |
|||
铵 |
0．1 |
0．1 |
0.05 |
溴化 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
氯 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
氟化 |
0．1 |
0.05 |
0.03 |
硝酸 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
亚硝酸盐 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
磷酸 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
硫酸 |
0．1 |
0.05 |
0.02 |
ICP/MS测定金属含量(μg/L) |
|||
铝 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锑 |
|||
砷 |
|||
钡 |
0.05 |
0.02 |
0.01 |
硼 |
0.3 |
0．1 |
0.05 |
镉 |
|||
钙 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铬 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铜 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铁 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
引领 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锂 |
0.05 |
0.02 |
0.003 |
镁 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
锰 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
镍 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
钾 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
钠 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锶 |
0.05 |
0.02 |
0.001 |
锡 |
|||
钛 |
|||
钒 |
|||
锌 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
注:本表中的数值为ASTM提供的指南。当半导体工业开发出新的线宽时，该指南将进行修订。请查阅ASTM网站(www.astm.org)查阅这些值的更新。
高端使用要求分为E-1.1型和E-1.2型。
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