半导体
半导体行业的超纯水（UPW）
在血浆显示，芯片和集成电路的生产中，对于某些过程步骤，必须具有很高质量的水。
UPW生产系统的典型方案
UPW生产需要整合多种治疗技术，包括反渗透，电脱离和离子交换。
设计良好的UPW系统需要战略选择技术和设备。根据饲料水质和/或用户要求，可以应用不同的配置。请请与我们联系以获取更多信息。
UPW质量指南
ASTM（美国测试和材料学会）区分了半导体行业的几个纯度
范围 |
类型E.1 |
E 1.1类型 |
E 1.2类型 |
行宽 |
1.0-0.5 |
0.35-0.25 |
0.18-0.09 |
电阻率25oC mω。厘米 |
18.1 |
18.2 |
18.2 |
TOC（μg/l）（在线 |
5 |
2 |
1 |
在线溶解氧（μg/L） |
25 |
10 |
3 |
蒸发后在线残留（μg/L） |
1 |
0.5 |
0.1 |
SEM颗粒 |
|||
0.1-0.2µm |
1.000 |
700 |
<250 |
0.2-0.5µm |
500 |
400 |
<100 |
0.5-0.1µm |
100 |
50 |
<30 |
10µm |
<50 |
<30 |
<10 |
CFU/卷中的细菌 |
|||
100 ml样品 |
5 |
3 |
1 |
1L样品 |
10 |
||
10L样品 |
|||
二氧化硅 |
|||
总（μg/L） |
5 |
3 |
1 |
溶解（μg/L） |
3 |
1 |
0.5 |
阴离子和铵通过IC（μg/L） |
|||
铵 |
0.1 |
0.1 |
0.05 |
溴化物 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
氯化物 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
氟化物 |
0.1 |
0.05 |
0.03 |
硝酸盐 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
亚硝酸盐 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
磷酸盐 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
硫酸盐 |
0.1 |
0.05 |
0.02 |
ICP/MS（μg/L）的金属 |
|||
铝 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锑 |
|||
砷 |
|||
钡 |
0.05 |
0.02 |
0.01 |
硼 |
0.3 |
0.1 |
0.05 |
镉 |
|||
钙 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铬 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铜 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
铁 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
带领 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锂 |
0.05 |
0.02 |
0.003 |
镁 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
锰 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
镍 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
钾 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
钠 |
0.05 |
0.02 |
0.005 |
锶 |
0.05 |
0.02 |
0.001 |
锡 |
|||
钛 |
|||
钒 |
|||
锌 |
0.05 |
0.02 |
0.002 |
注意：该表中的值是ASTM提供的准则。每当半导体行业开发新的线宽时，该指南将进行修订（请咨询ASTM网站（www.astm.org）有关这些值的更新。
高端使用的要求分类为E-1.1型和E-1.2类型。
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